光化學(xué)離子除臭技術(shù)
光化學(xué)離子設(shè)備除臭原理
光化學(xué)離子除臭工藝是一種安全可靠的處理方法，除臭效率高。其原理為離子輻射直接活化臭氣分子發(fā)生分解的直接反應(yīng)與輻射活化其它氣體分子再分解臭氣分子的間接反應(yīng)相結(jié)合的一種高級氧化技術(shù)，綜合利用了高強輻照場離子對惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對惡臭物質(zhì)的氧化去除作用來去除惡臭氣體中硫化氫、氨、甲硫醇等VOC(揮發(fā)性有機(jī)物)，并利用了水與氧在強輻照下分解所產(chǎn)生的活潑的次生氧化劑(OH自由基)來氧化分解惡臭氣體，改變臭氣分子的物化特性，最終污染物質(zhì)被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以達(dá)到除臭目的。高強輻射場和氧一道，存在一個協(xié)同作用，這種協(xié)同作用使該技術(shù)對惡臭去除臭的速率得到7至9個數(shù)量級的增加，即反應(yīng)速度增加千萬至十億倍。整個除臭過程中受外界影響少，所有的產(chǎn)物對人體及空氣無影響，不產(chǎn)生二次污染物。
光化學(xué)離子降解硫化氫、氨、甲硫醇
1、 硫化氫
硫化氫的光化學(xué)反應(yīng)如下
O3+hv→O2+?O
?O+H2O→2?OH
?O+O2→O3
H2S+O3+hv→S2-+H2O+O2
2、 氨
氨同樣可以在光化學(xué)離子有害氣體處理設(shè)備中得到較好的去除，發(fā)生初級光化學(xué)離子反應(yīng)后的分子或者自由基吸收輻射后繼續(xù)發(fā)生化學(xué)變化，產(chǎn)生的產(chǎn)物能夠進(jìn)一步參與次級化學(xué)過程。氨的光降解涉及以下反應(yīng)：
(1)觸發(fā)反應(yīng)
O3+hv→O2+?O
O2+hv→?O +?O
NH3+hv→?NH+2?H
O3+OH-→?HO2 +?O2-
?HO2→?O2-+H+
(2)傳遞過程
?O+H2O→2?OH
?O+O2→O3
?O2-+O3→?O3-+O2
?O3-+H+→??HO3
2?NH→N2+2?H
(3)終止反應(yīng)
2?NH+?O→N2+H2O
3、 甲硫醇
甲硫醇的光化學(xué)離子反應(yīng)和硫化氫的類似，同樣是因為HS-結(jié)構(gòu)型式的破壞而失去臭味。
O3+hv→O2+?O
?O+H2O→2?OH
?O+O2→O3
HS-+O3+hv→S2-+?OH +O2
光化學(xué)離子設(shè)備技術(shù)特點
1. 光化學(xué)技術(shù)是一種經(jīng)濟(jì)有效的實用技術(shù)：通常處理的惡臭氣體具有量大、濃度低的特點，極適合光化學(xué)反應(yīng)這一低耗高效的處理技術(shù)。
2. 反應(yīng)速度快，除臭效果優(yōu)良：輻照場和氧存在著一個協(xié)同作用，試驗表明這種協(xié)同作用使該技術(shù)對惡臭去除的速率得到7至9個數(shù)量級的增加，這樣設(shè)備的體積小，占地和空間小，尤其對于改造，增設(shè)的情況。
3. 模塊化的產(chǎn)品構(gòu)造，可以靈活搭配使用，適合臭氣源分塊、分期獨立處理。
4. 設(shè)備運行穩(wěn)定：設(shè)備內(nèi)部無高溫高壓等特殊部件，耐腐蝕，運行安全穩(wěn)定，開啟后無需特別的保養(yǎng)管理。
5. 設(shè)備的維護(hù)工作量小：光/氧反應(yīng)過程受外部環(huán)境影響甚小，除臭效果可以較持續(xù)穩(wěn)定，管路維護(hù)工作簡單。
6. 設(shè)備風(fēng)阻小，僅有250Pa左右，運行費用低，操作簡單方便。
7. 設(shè)備的核心部件--反射管采用頂級品質(zhì)的進(jìn)口光源，可穩(wěn)定、高效的輸出反應(yīng)所需的短波光子能量，使用壽命長。
8. 設(shè)備可設(shè)定就地手動控制、PLC自動控制;設(shè)定設(shè)備的正常運行、經(jīng)濟(jì)運行模式;提供遠(yuǎn)程傳遞運行信息與故障等信號。
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