極水室填充樹脂對(duì)電去離子過程濃縮低濃度NiSO4溶液的影響
更新時(shí)間：2014-12-15 15:44
來源：環(huán)境工程學(xué)報(bào)
作者:
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摘要:
以低濃度NiSO4溶液為處理對(duì)象，考察了極水室樹脂填充對(duì)EDI膜堆電阻、極限電流以及電極水pH的影響情況，并對(duì)EDI分離性能進(jìn)行了考察。結(jié)果表明，實(shí)驗(yàn)條件下，極水室填充樹脂后膜堆的極限電壓由6V提高到10V，對(duì)應(yīng)的極限電流從0.213A提高到0.421A。對(duì)于含Ni2+離子50mg/L的NiSO4溶液，EDI濃縮產(chǎn)品水Ni2+濃度達(dá)到14224mg/L，濃縮倍數(shù)280倍；淡水出水中Ni2+濃度為3.45mg/L，Ni2+脫除率為93%。實(shí)驗(yàn)范圍內(nèi)，EDI運(yùn)行穩(wěn)定，未產(chǎn)生Ni(OH)2結(jié)垢。
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