Fenton反應(yīng)過程氧化還原電位的影響因素研究
摘要：氧化還原電位(ORP)是氧化還原反應(yīng)方向和程度的重要參數(shù)。在Fenton反應(yīng)中，ORP隨著各種中間態(tài)氧化還原性物質(zhì)的形態(tài)改變而發(fā)生變化。通過測定不同反應(yīng)條件下Fenton氧化苯酚模擬廢水過程中ORP的變化規(guī)律，分析研究了Fenton體系氧化還原電位的影響因素，深化Fenton反應(yīng)的氧化機(jī)理與中間態(tài)產(chǎn)物的轉(zhuǎn)化規(guī)律。結(jié)果表明，F(xiàn)enton反應(yīng)初期，體系ORP隨著H2O2的加入迅速上升，但在達(dá)到極值后呈現(xiàn)緩慢回落趨勢。體系pH值、初始試劑投加比會對氧化還原電位的最大值產(chǎn)生影響，而H2O2的絕對投加量能夠改變ORP曲線的整體趨勢，H2O2投加量越大，體系ORP最高值越大，而且該值出現(xiàn)的時間也會因為H2O2對Fe 3+的絡(luò)合作用而存在一定程度的延后。
關(guān)鍵詞：環(huán)境工程學(xué)；Fenton試劑；氧化還原電位；Fe 3+ /Fe 2+
現(xiàn)階段有關(guān)于 Fenton氧化技術(shù)的研究主要集中在關(guān)于羥基自由基等的氧化機(jī)理，最佳反應(yīng)條件選擇以及光助、電助的類Fenton氧化技術(shù)等研究方面，而對于Fenton反應(yīng)中氧化還原電位的變化方面的研究鮮有報道。
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