系統(tǒng)介紹

　　在脫銷工藝氣體監(jiān)測中，出口的氨逃逸（殘余氨）濃度檢測非常重要，這是因為氨逃逸是反映和考評脫銷效率的指標之一，同時過量的氨逃逸會生成銨鹽嚴重影響后續(xù)空預(yù)器等設(shè)備正常運行，因此NH3逃逸監(jiān)測也是目前國內(nèi)脫銷工藝中煙氣監(jiān)測的重點和難點。HM-NH1000脫硝氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)是武漢華敏引進國外多次反射池專利技術(shù)針對脫硝的工藝特點和監(jiān)測難點而開發(fā)設(shè)計的一款全程超高溫原位抽取式激光監(jiān)測分析系統(tǒng)。適用于眾多工業(yè)領(lǐng)域的氣體排放監(jiān)測和過程控制，例如：燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、核電站、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等領(lǐng)域。

系統(tǒng)特點

光纖分布技術(shù)-實現(xiàn)主機與現(xiàn)場光學發(fā)射接收單元分離，可使一臺主機同時監(jiān)測4個測點。無需校正技術(shù)-分析儀采用內(nèi)置標準氣體參比模塊，實時鎖住氨氣吸收譜線，不受溫度、電源以及系統(tǒng)部件老化影響，系統(tǒng)無漂移，避免了系統(tǒng)定期校正煩惱。

　　　氣、鏡分離的多次反射池技術(shù)，多次反射池有效光程達到30米，靈敏度可達0.1ppm，被測氣體與反射鏡分離不接觸，氣體干擾不會影響儀表測量精度和反射鏡腐蝕。所有樣品接觸部分均溫控到250℃，避免NH3與SO3產(chǎn)生NH4(HSO4)，造成采樣損失。

　　　原位抽取采用方式?jīng)]有采樣管線，樣品氣體直接進入多次反射池，避免采樣損失。

系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)列表

1.       系統(tǒng)配置

單通道HM10-NH3　　　適用于所有SCR/SNCR脫硝煙道單點監(jiān)測

雙通道HM20-NH3　　　適用于一個機組的A、B煙道或自備電廠兩個小機組單獨煙道監(jiān)測

2.       技術(shù)參數(shù)

測量原理 　　　TDLAS

測量組分 　　　NH3  (可增加NOx 和O2)

　　　　　　　NH3：0-10ppm

量程范圍　　　　　　　NOx：0-1000ppm

　　　　　　　O2： 0-21%

　　 　　　　　　　NH3：0.1ppm

分辨率　　　　　　　　NOx：1ppm

　　　　　　　O2： 0.01%

           　　　NH3：±0.1ppm

測量精度　　　　　　　NOx：±3%F S

　　　　　　　O2：±1% F S

響應(yīng)時間　      　　　≤1S

儀表光程 　　　30米

伴熱溫度 　　　全程250℃

預(yù)熱時間 　　　≤30min

探頭工作溫度 　　　0-500℃

探頭長度 　　　1200、1500